本发明属于真空镀膜技术领域,尤其是一种镀膜均匀的镀膜装置,针对现有技术中蒸发镀膜不够均匀的问题,现提出以下方案,包括镀膜室,所述镀膜室内部的一侧设置有加热件和靶材,所述镀膜室的顶部固定有固定管,且固定管的顶端通过管道连接有真空泵,所述镀膜室远离加热件的一侧外壁固定有第一电机,且第一电机的输出轴固定有设置于镀膜室内部的固定座,所述固定座远离第一电机的一侧顶部和底部均固定有固定架,且两个固定架之间转动连接有固定杆。本发明中,通过第二电机转动固定杆使零部件在水平方向转动,通过第一电机转动固定座使零部件在竖直方向转动,从而使多个零部件以及零部件的各个位置均匀的与气化的靶材接触。