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14纳米CMOS量产工艺中光源掩模协同优化技术

14纳米CMOS量产工艺中光源掩模协同优化技术

商城价： 面议

市场价：￥0

专利申请号：

专利分类： 农业家居日用类   食品照明

专利类型：发明专利

交易方式： 第三方委托

人气值 197

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    专利详情 最终专利状态以国家知识产权局当前状态为准

    微电子所先导中心韦亚一研究员团队与中芯国际研究团队围绕14 纳米CMOS 量 产工艺中光源掩模协同优化技术开展联合攻关并取得显著进展，完成了后段制程中 多层关键层的光源优化工作，包括Metal 1X、Metal 1.25X、Via 1X 等。优化后光 源通过晶圆数据验证评估，较原有光源在各项关键指标上有显著提升，保证了先进 节点中光刻工艺的稳定性。

    交易流程 买卖双方直接交易，服务机构专业辅导，觅多多全程监督服务

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