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高性能氮化镓基电子材料

高性能氮化镓基电子材料

商城价: 面议

市场价:¥0

专利申请号:

专利分类: 机械建筑设备类   新材料技术

专利类型:发明专利

交易方式: 第三方委托

人气值 227

技术与证书一起转让

    • 邹经理

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    专利详情 最终专利状态以国家知识产权局当前状态为准

    中科院半导体所是国内最早开展 GaN 基电子材料研发的单位,并一直在该领域起着引领、 示范和带动作用。经过尽二十年的自主创新,攻克了 2 英寸和3英寸蓝宝石、碳化硅和硅衬底上GaN 基电子材料外延生长的关键科学技术问题,在高阻 GaN 外延材料、高迁移率 GaN 外延材料、高迁移率 AlGaN/GaN 异质结结构材料等方面形成了系统的自主知识产权,设计并研制出了多种具有特色的 AlGaN/GaN 异质结构电子材料,并实现了批量供片。市场预期:该技术是采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法,在蓝宝石、碳化硅或者硅衬底上外延高性能 GaN 基电子材料,采用该技术研制的GaN基电子材料,生长速度快、材料质量好,重复性和均匀性高。采用该技术所研制的外延材料性能为国内领先、国际先进水平,部分指标参数为国际领先水平。

    交易流程 买卖双方直接交易,服务机构专业辅导,觅多多全程监督服务

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